天才一秒记住【墨离尘】地址:appappapp.net
解让陈星收获了掌声与称赞,不过他也只是停顿了片刻,待现场掌声稍稍减弱,他压了压手,示意安静下来道:
“现在大家都对光刻抗阻有了一定的认知,那我就不得不再提光刻抗阻为什么可以反应出纯度,亦或者说品质。”
“玩过光源聚焦的都知道,光束越集中,单点能量就越强,这个大家可以拿个放大镜去聚焦太阳光,我就不过多赘述了。”
“目前的光刻机光源,分为已经半淘汰的248纳米,主要用于90纳米以上的光刻,其次是193纳米光源和13.5纳米光源,这里值得注意的是,13.5纳米光源只有EUV光刻机可以做到。”
“光源越小,能量密度越高,相对应的精准度也会越高,这就给我们光刻工程师提供了更高工艺水准芯片的温床,14纳米工艺芯片用的就是13.5纳米光源。”
“之前我也提到了,光束越集中,光刻的能量就越强,如果光刻胶抗阻型弱,是不是很容易造成半导体硅片污染?”
问题抛出,全场来宾都微微颔首,认同陈星的说法。
罗浩更是凑近雷布斯,小声感慨道:“还别说,陈老弟完全可以去高校当教授了,居然连我都听得懂什么叫光刻抗阻。”
“这就叫积累,好好学吧。”
雷布斯淡淡回应。
陈星不拿任何提示稿件,现场也没有提词器,却可以把光刻抗阻讲述这么透彻,要说没下苦功夫那是不可能的。
而在所有观众对光刻抗阻和光源有了一定认知后,陈星继续讲述道:“因此想要造7纳米、5纳米甚至是3纳米芯片,光刻胶的抗阻性必须要跟上工艺进度,所以我们这款10^25光刻胶理论支持…”
陈星按下手心的遥控器,LED屏幕弹出具体参数的瞬间,快速开口道:“3纳米。”
“!!!”
“嘶!!!”
现场惊呼声,倒吸凉气声交织,宛如一场口技盛宴,每个人都贡献自己的声音。
任国非闪烁惊讶目光的同时,喃喃自语道:“这小子没开玩笑,他可能真在搞3纳米芯片。”
“这…”
雷布斯惊得说不出话。
罗浩、段勇平、陈永、王福等老总同样如此,一时间都被这个消息震慑住了。
当初陈星回应裤克,提出3纳米芯片的世纪赌约,几乎没有业内老总认为陈星可以办得到。
3纳米芯片什么概念?
这得有EUV光刻机吧?
龙兴科技没有。
还要有高纯度光刻胶吧?
龙兴科技也没有。
最后还得设计相应集体电路图,具备熟练的生产工艺吧?
前面芯片设计不好说,后面的光刻生产工艺,龙兴科技同样不具备这个条件。
在种种因素制约下,所有人都当陈星是口嗨。
可万万没想到,他们觉得的口嗨行为,却是陈星手上一张张没有曝光的底牌。
12寸半导体硅片很大?
16寸够不够?
不够还有20寸的。
10^15抗阻的光刻胶只能应用于14纳米芯片?
10^25光刻胶了解一下?
现在他们严重怀疑,陈星连光刻机也攻克了,那句“3纳米芯片”可能不是空谈。
……
远在大洋彼岸的库比蒂诺,住在别墅区的裤克已经呆若木鸡,整个人愣住了。
14N16寸和20寸半导体硅片,10^25最高支持3纳米工艺芯片光刻的光刻胶。
陈星没吹牛。
他真的在搞3纳米芯片。
裤克和其他人一样,都不相信龙兴科技具备3纳米芯片的研发条件,因为限制太多了。
可看了“阴间发布会”,他现在想揪着陈星衣领问:“你到底还有多少底牌没打出来?”
“呵呵…”裤克苦笑一声,突然意识到双方的差距,如果真是10^25光刻胶,那世纪赌约他可能输一半了,陈星是真有东西的。
不等裤克回过神,陈星像似又一次预料到会有人质疑,再次自证道:“我相信有很多同行友商都在关注这场直播,和半导体硅片一样,我们上机器实测。”
话音落下。
工作人员再次推出设备。
“这叫光刻胶抗蚀剂测量仪,还有光刻胶厚度测量仪,下面由我来进行实测。”
裤克:“……”
藤井小山:“……”
黄任勋:“……”
沉默了。
再次集体沉默了。
什么叫实力?
这就叫做有实力。
走黑粉的路,让黑粉无路可走,喜欢质疑品质,那他陈星就亲自打假看看。
经过一通操作,连接的礼堂LED屏幕出现了相关参数,的的确确到达了10^25的抗阻。
陈星
本章未完,请点击下一章继续阅读!若浏览器显示没有新章节了,请尝试点击右上角↗️或右下角↘️的菜单,退出阅读模式即可,谢谢!