墨离尘

第115章 多方布局曝光,芯片弯道超车! (第3/3页)

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芯片生产环节?

反观陈星,现在他有些激动,浑身止不住颤抖,陈永这个消息实在是太及时了。

如果他们自己有光刻机,哪怕只是48纳米制程的,说不定也能用多重曝光技术,自产出28纳米的开天基带芯片。

假设28纳米开天基带芯片可以量产,维持龙兴x1手机的量产,西方会怎么想?

它们肯定会想,这踏马到底又是谁代工的?

龙芯国际大可大大方方让荷兰工程师去查,这样就可以帮它洗脱嫌疑,继续隐藏在暗处,帮龙兴科技生产14纳米轻舟处理器芯片。

这个光刻机,很关键!

雷布斯则是有疑问,他看向陈星问道:“28纳米的开天基带芯片,用48纳米光刻机能生产吗?”

“要不重新设计?”

任国非提议。

他们都不知道多重曝光技术,还在以为48纳米光刻机,只能生产48纳米工艺芯片。

见众人都掏出“底牌”了,陈星也不再隐瞒,正面回应道:“多重曝光技术可以解决精度问题,48纳米制程光刻机,理论上,或许能做到12纳米芯片。”

“咳咳…咳咳咳……”

罗浩茶水入喉,被陈星这句话给呛到了。

48纳米制程光刻机,可以生产12纳米芯片???

任国非、雷布斯、段勇平几人都露出抹疑惑,陈永更是连忙追问道:“这怎么生产?”

48纳米制程的duv光刻机目前已经属于淘汰产物,西方的制裁力度也放开了不少,这才让他搞到一台,并让人完成破解。

他破解的心思也很单纯,就是想着未雨绸缪。

他害怕西方会全面制裁芯片领域,所以偷偷破解了一台光刻机,以防不时之需。

现在你说它能产12纳米芯片?

那台48纳米制程的光刻机在陈永心里,不亚于废铁变黄金,纯属是捡到宝了!

“多重曝光技术。”

陈星淡淡说出六个字。

哪怕告诉他们,如果没有林天亲自操作示范,他们也不知道这是什么光刻原理。

“多重曝光?”

“什么是多重曝光?”

“陈总,难道你们龙兴科技有光刻领域人才?”

在几人疑惑时,任国非露出抹恍然大悟的神情,分析道:“原来如此,怪不得龙芯国际能给你们代工14纳米轻舟芯片,原来是用了这个所谓的多重曝光技术!”

“原来不是买了euv光刻机?”雷布斯愣了愣,他还以为龙芯国际有了euv光刻机呢。

他们之前其实都在猜,到底是谁给龙兴科技公司代工14纳米轻舟处理器芯片。

龙芯国际?

它明明没euv光刻机啊!

没euv极紫外光光刻机,怎么生产14纳米芯片?

现在!

水落石出了!

他们龙国本土企业,再次实现弯道超车,用技术弥补了设备精度上的不足。

这一场“底牌”的交谈,在座的每位老总都收获良多,特别是蓝绿厂的陈永。

他终于意识到,当初的决定是多么正确,未雨绸缪就是可以在未来的某个瞬间帮助到自己发展。

“半导体硅片有了,光刻胶好像没对龙兴科技限制吧?不如让高永明他们派几位工程师过来,试试48纳米光刻机能不能产28纳米的开天基带芯片?”

陈永提议道。

他已经迫不及待,想看见自己光刻机生产出主流芯片。

如果真可以产出28纳米芯片,那真的就是船到桥头自然直,柳暗花明又一村!

然而还不等其他人开口,陈星露出抹淡淡笑意,不紧不慢说道:“不需要找龙芯国际,我这边就有人会多重曝光技术。”

罗浩:“……”

好好好!

好好好好好好!

寻思!

真就他没布局芯片生产!

这里其他人,搞硅片的搞硅片,搞设备的搞设备,搞光刻机的搞光刻机,还有个懂多重曝光技术,突破光刻机限制的!

就他!

特么去搞了个直播行业……

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