墨离尘

第七十八章 授业之恩,今生难忘 (第1/2页)

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“多重曝光技术?”

站在高永明右侧的工程师露出抹不解,他叫唐鑫宇,是龙芯国际光刻团队的副首席。

他好像听说过,但记不起来在哪听过了。

“没错。”

林天点了点头,语气坚定道:“DUV光刻机是可以制造14纳米芯片的,它的极限远不止于此,理想状态是能到7纳米。”

高永明:“!!!”

唐鑫宇:“!!!”

曲程:“!!!”

DUV光刻机极限居然是7纳米?

你在开什么玩笑?

陈星也被惊到了,如果真能使用一台20纳米制程的DUV光刻机造出7纳米芯片,那西方会不会对此大跌眼镜?

别看明面上,米国还没下场封锁技术,但背地里,其实早就限购光刻机了。

它的做法很简单,可以卖你龙国光刻机,但不能卖给你最先进的光刻机。

例如两年前,28纳米还属于先进水平的时候,28纳米制程的DUV光刻机就不能卖给龙国,谁敢卖,就是和米国作对。

荷兰敢吗?

显然是不敢的,它们也没有这个本事。

荷兰ASML公司说白了,它就是个光刻机组装工厂,没有米国的光源技术,它啥也不是。

而到了今天,西方攻克了14纳米芯片后,已经把目光看向了7纳米芯片,自然而然的,20纳米DUV光刻机就被放开了。

米国目的很明显,允许你用,但不允许你超越。

越是害怕,越会提防,因为龙国才脱离战争不到三十年,就发展到了世界第二大经济体,再给发展三十年会怎么样?

沉睡的雄狮,东方的巨龙,它们哪敢不防?

陈星虽然是商人,但同时也是位龙国商人,如果能在自家搞出14纳米芯片,那他还是愿意多支付一些流片费用的。

毕竟曲程也说了,之前龙兴科技公司申请的国家芯片扶持也走完审核流程,资金和土地都进入了最终的批准环节。

“说说使用这個多重曝光技术,流片要多少钱?”

陈星表明自己态度。

林天得到确切的答复后,述说自己的想法道:

“光刻多重曝光技术,说通俗直白一点就是,原本只需一块的芯片掩膜版就可以搞定的生产,现在我们因为光刻机精度和分辨率的限制,将它拆分多块,每一块都有相对应的电路图案。”

“比如我们要做14纳米芯片,可以把设计的芯片电路图案拆开,就得到了两份28纳米间隔的电路图案,分两次把它们刻在硅片上,就会形成完整的14纳米芯片电路图案,就类似于我们龙国的太极图,一阴一阳互补的意思。”

“因为是两块芯片掩膜版,所以要给双倍的流片费用。”

陈星大致听明白了,这个多重曝光技术就相于要印刷一个AB字母的组合图案。

第一步先把AB拆开,得到A与B两个图案,然后将它们分别制作光掩膜版,紧接着用第一块A字母的掩膜版在硅片上刻了A,再用B字母的掩膜版在硅片上刻上B,最终得到所需要的AB组合图案。

八个字概括就是,精度不够,工序来凑。

“要花两倍的流片费用,高总,14纳米的……”

陈星刚想问问流片费多少,却发现高永明整个人止不住颤抖,瞳孔微缩的同时,充满了恍然大悟与激动之色。

他身旁的两位光刻工程师,也在喃喃低语。

“多重曝光…”

“既然单次精度不够,为何不分两次曝光呢?”

“好天才的想法…”

三人似乎进入了顿悟状态,高永明本身就是干这方面的,同时也是光刻领域的教授,他自然不会听不懂林天在说什么,现在他脑海只有一段话:“多重曝光技术,DUV光刻机的春天终于要来了吗?”

一阴一阳的图案互补,理论上是绝对可以的,而且还能一分为四,虽然工序更复杂,还别说,7纳米芯片真能造!

曲程也在惊叹这个想法,他怎么说也是半导体领域院士,虽然不是光刻方面的,但步骤他可都是一清二楚的。

惊叹林天想法的同时,也在感慨陈星运气怎么这么好,可以结识到这么多天才。

高正谦、白衍、林天这三人,他都可以用怪胎形容了,而陈星可以同时和他们结交,并将其收入麾下,怪不得有人说,运气也是实力的一部分。

不知过去多久,可能有足足十分钟左右。

“呼——”

唐鑫宇长舒一口气,看向高永明说道:“生产阴阳芯片掩膜版,没准真能突破光刻机限制,造出14纳米芯片。”

“我觉得可以一试。”

另一位龙芯国际的工程师也开口给予肯定。

以往他们的思维是,拥有多少纳米精度的光刻机,就制造多少纳米的芯片,这也是国际一直灌输的刻板理念,让

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